N-Well Process MCQ Quiz in हिन्दी - Objective Question with Answer for N-Well Process - मुफ्त [PDF] डाउनलोड करें

Last updated on Apr 15, 2025

पाईये N-Well Process उत्तर और विस्तृत समाधान के साथ MCQ प्रश्न। इन्हें मुफ्त में डाउनलोड करें N-Well Process MCQ क्विज़ Pdf और अपनी आगामी परीक्षाओं जैसे बैंकिंग, SSC, रेलवे, UPSC, State PSC की तैयारी करें।

Latest N-Well Process MCQ Objective Questions

N-Well Process Question 1:

ऐवेलांश भंजन मुख्य रूप से किसके कारण होता है?

  1. प्रभाव आयनन
  2. संधि के आर-पार प्रबल विद्युत क्षेत्र
  3. इलेक्ट्रॉनों का उत्सर्जन
  4. तापमान में वृद्धि

Answer (Detailed Solution Below)

Option 1 : प्रभाव आयनन

N-Well Process Question 1 Detailed Solution

ऐवेलांश भंजन:

  • ऐवेलांश भंजन उच्च ऊर्जा वाले इलेक्ट्रॉन के जालक इलेक्ट्रॉनों से टकराने और चालन के लिए उसे मुक्त करने के कारण होता है, इस तरह के भागने के प्रभाव को प्रभाव आयनन कहा जाता है, यह सामग्री में ऐवेलांश भंजन का कारण बनता है।
  • ऐवेलांश तंत्र में, एक तरफ से दूसरी तरफ गति करने वाले आवेश वाहक उल्टे दिशा में लगाए गए उच्च वोल्टेज के कारण क्षय क्षेत्र में पर्याप्त गतिज ऊर्जा प्राप्त कर सकते हैं। ये ऊर्जावान आवेश वाहक सहसंयोजक बैंड को तोड़ सकते हैं और E-H जोड़े मुक्त कर सकते हैं।
  • उत्पन्न E-H युग्म अधिक आवेश वाहकों को भी उत्पन्न कर सकते हैं और इसलिए धारा में भारी वृद्धि हो सकती है। इस प्रक्रिया में, E-H युग्म उत्पादन के लिए पर्याप्त रूप से बड़ी क्षय चौड़ाई के लिए कम डोपिंग की आवश्यकता होती है।
  • तापमान के साथ E और H द्वारा इलेक्ट्रॉन-होल युग्म उत्पन्न करने के लिए जिस माध्य मुक्त पथ की यात्रा करनी होती है, वह घट जाती है।

Top N-Well Process MCQ Objective Questions

ऐवेलांश भंजन मुख्य रूप से किसके कारण होता है?

  1. प्रभाव आयनन
  2. संधि के आर-पार प्रबल विद्युत क्षेत्र
  3. इलेक्ट्रॉनों का उत्सर्जन
  4. तापमान में वृद्धि

Answer (Detailed Solution Below)

Option 1 : प्रभाव आयनन

N-Well Process Question 2 Detailed Solution

Download Solution PDF

ऐवेलांश भंजन:

  • ऐवेलांश भंजन उच्च ऊर्जा वाले इलेक्ट्रॉन के जालक इलेक्ट्रॉनों से टकराने और चालन के लिए उसे मुक्त करने के कारण होता है, इस तरह के भागने के प्रभाव को प्रभाव आयनन कहा जाता है, यह सामग्री में ऐवेलांश भंजन का कारण बनता है।
  • ऐवेलांश तंत्र में, एक तरफ से दूसरी तरफ गति करने वाले आवेश वाहक उल्टे दिशा में लगाए गए उच्च वोल्टेज के कारण क्षय क्षेत्र में पर्याप्त गतिज ऊर्जा प्राप्त कर सकते हैं। ये ऊर्जावान आवेश वाहक सहसंयोजक बैंड को तोड़ सकते हैं और E-H जोड़े मुक्त कर सकते हैं।
  • उत्पन्न E-H युग्म अधिक आवेश वाहकों को भी उत्पन्न कर सकते हैं और इसलिए धारा में भारी वृद्धि हो सकती है। इस प्रक्रिया में, E-H युग्म उत्पादन के लिए पर्याप्त रूप से बड़ी क्षय चौड़ाई के लिए कम डोपिंग की आवश्यकता होती है।
  • तापमान के साथ E और H द्वारा इलेक्ट्रॉन-होल युग्म उत्पन्न करने के लिए जिस माध्य मुक्त पथ की यात्रा करनी होती है, वह घट जाती है।

N-Well Process Question 3:

ऐवेलांश भंजन मुख्य रूप से किसके कारण होता है?

  1. प्रभाव आयनन
  2. संधि के आर-पार प्रबल विद्युत क्षेत्र
  3. इलेक्ट्रॉनों का उत्सर्जन
  4. तापमान में वृद्धि

Answer (Detailed Solution Below)

Option 1 : प्रभाव आयनन

N-Well Process Question 3 Detailed Solution

ऐवेलांश भंजन:

  • ऐवेलांश भंजन उच्च ऊर्जा वाले इलेक्ट्रॉन के जालक इलेक्ट्रॉनों से टकराने और चालन के लिए उसे मुक्त करने के कारण होता है, इस तरह के भागने के प्रभाव को प्रभाव आयनन कहा जाता है, यह सामग्री में ऐवेलांश भंजन का कारण बनता है।
  • ऐवेलांश तंत्र में, एक तरफ से दूसरी तरफ गति करने वाले आवेश वाहक उल्टे दिशा में लगाए गए उच्च वोल्टेज के कारण क्षय क्षेत्र में पर्याप्त गतिज ऊर्जा प्राप्त कर सकते हैं। ये ऊर्जावान आवेश वाहक सहसंयोजक बैंड को तोड़ सकते हैं और E-H जोड़े मुक्त कर सकते हैं।
  • उत्पन्न E-H युग्म अधिक आवेश वाहकों को भी उत्पन्न कर सकते हैं और इसलिए धारा में भारी वृद्धि हो सकती है। इस प्रक्रिया में, E-H युग्म उत्पादन के लिए पर्याप्त रूप से बड़ी क्षय चौड़ाई के लिए कम डोपिंग की आवश्यकता होती है।
  • तापमान के साथ E और H द्वारा इलेक्ट्रॉन-होल युग्म उत्पन्न करने के लिए जिस माध्य मुक्त पथ की यात्रा करनी होती है, वह घट जाती है।

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